高低温循环器主要应用于高压反应釜、中试生产不锈钢反应釜、双层玻璃反应釜、夹套反应釜、微通道反应器、反应装置、组合化学等冷热源动态恒温控制以及制药行业中的低温蒸馏、精馏、萃取等设备中。

高低温循环装置主要应用于：高压反应釜、中试生产不锈钢反应釜、双层玻璃反应釜、夹套反应釜、微通道反应器、反应装置、组合化学等冷热源动态恒温控制以及制药行业中的低温蒸馏、精馏、萃取等设备中，该系列可提供 -80℃~+250℃的温度控制范围，特殊可升级高温至300℃，特别适用于快速放热和吸热的化学反应试验。

制冷加热控温系统在实验室精确控温方面所展现出的关键技术主要包括了高精度的PID温控算法、高性能的制冷与加热组件、绝热技术和智能远程控制功能。

半导体温控系统主要由加热循环系统、冷却系统、控制系统、箱体等组成。加热循环系统包括循环泵、电加热器、膨胀容器、排气阀、单向阀、热电阻、循环管道等组成。冷却系统包括油水换热器、油油换热器（部分设备）、冷却水电磁阀、高温电磁阀等组成。控制系统采用PID控制技术，高清显示屏，设有多项保护功能，确保设备安全运行。通过机组自身的加热与冷却，向外界输送载热流体，满足工艺条件要求。

TCU温度控制系统是一种集成了温度传感器、控制器和加热/冷却装置的设备。它通过监测环境温度并根据预设的温度设定值自动调节加热或冷却装置，以达到所需的温度控制目标。

　高低温一体循环机结合了高低温控制技术与循环技术，能够在温度条件下，提供稳定的温度环境，并且可以实时控制和调整温度。这一设备广泛应用于材料科学、生物医学、化学物理等领域，为科研人员提供了有力的实验条件支持。

晶圆生产完成后，需要对其进行各种参数的检测，在检测的过程中，需要在不同温度下进行测试，晶圆测试用温控设备（晶圆测试温控系统）是高精度，高分辨率，高稳定性的控制设备。